蝕刻氣體

C4F6, CF4, CHF3, CH2F2, C2F6, C3F8, C4F8, CH3F, SF6, BCl3, Cl2, HBr, HCl, etc.

清洗用氣體

NF3, C3F8, SF6, C2F6, 20%F2/N2, CO2, HCl, HF, etc.

成膜氣體

NH3, N2O, SiF4, H2Se, etc.

用途：

彩色濾光鏡清洗，電子靶材清洗，電子部品清洗等

產(chǎn)品列表：

SC-9500，SC-9500R
環(huán)己酮
有機(jī)去蠟劑，航空煤油
高純度溶液（MMP,NMP,PGMEA,PGME etc.）

酸性氣體處理裝置-Z型（干式）

處理氣體： HCl,Cl2,HF,F2,HBr,SiCl4,SiF4,etc.

PFC氣體處理裝置-PF型（干式）

處理氣體： PFC類(lèi) [ CF4,C2F6,C5F8等 ]
                   HFC類(lèi) [ CHF3,CH2F2等 ],SF6,HF,CO,etc.

PFC氣體處理裝置-CD型（催化水洗式）

處理氣體： PFC類(lèi) [ CF4，C2F6，C5F8等 ]
                   HFC類(lèi) [ CHF3,CH2F2等 ],SF6,HF,CO,etc.